光敏电阻的基本结构

       通过对光电导效应的讨论得出下面的结论：①光电导材料的光电导灵敏度与光电导材料两极间的距离有关；②光电导材料在微弱辐射作用 的情况下光电导灵敏度与光敏电阻两电极间距离的二次反比；③在强辐射作用的情况下光电导灵敏度与光敏电阻两电极间距离的2/3次方成反比。因此，为了提高光敏电阻的光电导灵敏度，要尽可能地缩短光敏电阻间两电阻间的距离。这就是光敏电阻结构设计的基本原理。

       根据光敏电阻的设计原则可以设计出3种基本结构。①梳形结构，两个梳形电极之间为光敏电阻材料，由于两个梳形电极靠得很近，电极间距很小，光敏电阻的灵敏很高。②蛇形结构，光电导材料制成蛇形，光电导材料的两侧为金属导电材料，并在其上设置电极。显然，这种光敏电阻的电极间距（为蛇形光电导材料的宽度）也很小，提高了光敏电阻的灵敏度。③刻线式结构，在制备好的光敏电阻衬底基本片上刻出狭窄的光敏材料条，再蒸涂金属电极构成刻线式结构的光敏电阻。